Sputter cleaning is the most reliable way for the pre-treatment of substrates before the deposition of coatings with the aid of magnetron sputtering or vacuum arc deposition. In this work, a large-aperture Hall current accelerator was developed for the sputter cleaning of large-area glasses, metals and plastics sheets. The main advantage of the Hall current accelerator is the possibility to use reactive gases. The Hall accelerator developed is able to work with argon, oxygen, nitrogen and carbon dioxide. The accelerator has the form of a very elongated loop with a large aperture (1400 mm in the vertical direction). The maximum power of the Hall current accelerator is 10 kW. The current-voltage characteristic measured for argon is presented. It allows one to optimise the regime of sputter cleaning by finding the maximum power value at a stable discharge.<br><br>La erosión iónica es el método más eficaz para la eliminación de la capa superficial de los substratos en su fase de preparación para la deposición de recubrimientos en vacío. En el presente trabajo se describe la construcción y características de un acelerador Hall de la corriente eléctrica de abertura larga, diseñado para la limpieza, mediante erosión iónica, de superficies de substratos de vidrio, metal y plástico en forma de láminas con área extensa. Una de las ventajas del acelerador Hall es la posibilidad de uso de gases reactivos. El acelerador aquí descrito es capaz de trabajar con argón, oxígeno, nitrógeno y dióxido de carbono. Este acelerador tiene una forma de bucle muy alargado y, por tanto, dispone de una abertura larga (1400 mm en vertical). La potencia máxima del acelerador es de 10 kW. Se presenta la característica corriente-tensión del acelerador en atmósfera de argón que permite optimizar el régimen de limpieza por erosión, encontrando el máximo de potencia para la descarga estable.